據(jù)悉，2021年，中芯國(guó)際全年?duì)I收、第四季度營(yíng)收和凈利潤(rùn)均創(chuàng)歷史新高。對(duì)此，有關(guān)人士表示，這組數(shù)據(jù)體現(xiàn)了中國(guó)在芯片領(lǐng)域的快速崛起。在這種情況下，中國(guó)仍在該領(lǐng)域加碼、投資布局，相信國(guó)產(chǎn)芯片很快就能迎來(lái)屬于自己的時(shí)代。

　　如今，科學(xué)技術(shù)顯然已經(jīng)成為世界的"主戰(zhàn)場(chǎng)”。我國(guó)對(duì)芯片的需求也越來(lái)越高，在眾多科研人員的不斷努力下，迎來(lái)了全新的變革，現(xiàn)在國(guó)內(nèi)的芯片技術(shù)已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了突破，中國(guó)企業(yè)已經(jīng)啟用國(guó)產(chǎn)芯片，訂單需求也實(shí)現(xiàn)了十倍增長(zhǎng)。

　　芯片的制造過(guò)程很復(fù)雜，從設(shè)計(jì)、生產(chǎn)到包裝和測(cè)試，每一步都非常重要。制造過(guò)程中需要解決的問(wèn)題有耗材、晶圓、光刻膠、超純水、各種離子等。接下來(lái)，我們就來(lái)說(shuō)一說(shuō)超純水在芯片生產(chǎn)中的應(yīng)用。

　　超純水設(shè)備結(jié)合膜分離技術(shù)，利用反滲透結(jié)合EDI裝置制備超純水，出水電阻率可達(dá)18.2MΩ.cm(25℃)，滿足半導(dǎo)體生產(chǎn)用水的需求。同時(shí)，設(shè)備還配備了反滲透預(yù)脫鹽技術(shù)，以確保設(shè)備的出水水質(zhì)。同時(shí)，EDI處理裝置產(chǎn)生的廢水較少，不會(huì)污染環(huán)境，具有較高的環(huán)境效益和經(jīng)濟(jì)效益，具有廣闊的發(fā)展前景。

　　超純水設(shè)備具有連續(xù)出水、無(wú)需酸堿再生和無(wú)人值守、安裝簡(jiǎn)便、操作方便等優(yōu)勢(shì)，出水水質(zhì)符合電池用水相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)，為芯片用水保駕護(hù)航。隨著超純水設(shè)備技術(shù)不斷完善，開(kāi)啟了各行業(yè)生產(chǎn)發(fā)展的新局面。許多企業(yè)在生產(chǎn)過(guò)程中對(duì)水質(zhì)純度有不同的要求，并得到了廣泛的應(yīng)用，如清洗設(shè)備用水、精密產(chǎn)品生產(chǎn)用水、檢測(cè)用水等。超純水設(shè)備可保證芯片良品率，是芯片生產(chǎn)的重要設(shè)備之一。